突破封锁,是否与突破美封锁和叙新局势有关

1、突破封锁，是否与突破美封锁和叙新局势有关？

鲁哈尼这次是应埃尔多安的邀请对土耳其进行的一次工作访问。主要是为了参加“土耳其-伊朗高级别合作理事会（HLCC）”第五次会议。在会议期间双方会签署一系列政治、经济和文化交流方面的协议协议。鲁哈尼于星期三到达，整个访问为期两天，周四下午返回伊朗。

（埃尔多安与鲁哈尼）

由于是参加双边例行的会议，所以访问期间的会晤所涉及的议程和内容基本都是固定的，主要围绕着双边政治、经贸、文化领域的合作展开。不过彼此作为叙利亚内战的两个主要参与者，不可能不就叙利亚当前局势的发展深度交换意见，因为在彼此看来已经到了“分蛋糕”的时候了。俄、土、伊三国的外长刚刚就叙利亚“制宪问题”达成共识，决定在明年一月召开由叙利亚政府和反对派人士参与的大会，就新宪法的编纂进行妥协和接触性的讨论。

（俄土叙三国外长）

由于美国对于伊朗的制裁已经完全启动，伊朗本身的经济出现了断崖式的下跌。土耳其是目前仅有的八个获得伊朗能源进口豁免的主体之一。不但如此，双边在经贸领域的合作也十分紧密，具有很强的互补性。土耳其本身就是一个巨大的市场，而且还是欧亚交通要冲，伊朗的商品可以借道土耳其输往欧洲市场。所以在当前严峻的经济形势形式下，维持与土耳其之间的友好关系，对于伊朗而言意义十分重大。此次会谈所达成的经贸协议，预计会使得双边的贸易额有望将增加到300亿美元。

（两国天然气管道）

这两个国家在安全领域上也有着共同关切。因为他们都面对着一个对手，那就是库尔德分离主义势力。活跃在土伊边境的库尔德工人党武装与同样活动在伊拉克境内的伊朗库尔德斯坦民主党之间有着密切的联系。双方不但人员来往频繁，更是互相分享者斗争经验。这种串联是及其危险的，所以在去年伊拉克库尔德自治区公投过后，埃尔多安为了应对突发情况，亲赴德黑兰与伊朗最高领袖哈梅内伊面谈。在压制库尔德人分离主义势力方面彼此有着广泛的合作空间，而且利益几乎是高度重叠的。

（库尔德斯坦）

土耳其和伊朗两个国家虽然在叙利亚、经贸、安全方面存在这共同利益。但是这两个国家本身终究是彼此相邻的地区大国，并且在宗教意识形态方面差异巨大。伊朗的进行影响力输出打造什叶派之弧的扩张计划，其与土耳其的泛伊斯兰民粹主义运动之间存在着根本性的冲突。这就决定着，一旦外部压力撤去，那么潜在矛盾会立刻凸显出来。

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2、能否突破佳能索尼富士的封锁吗？

我认为，短时间内尼康Z50很难在apsc画幅的微单市场内大有作为。

尼康Z50从性能规格上来看，大约对位于索尼6400、佳能em6ii、富士xt30。

尼康这款新机算不上差，但是也称不上优秀。因为，z50具备的东西索尼、佳能、富士都有。

机身方面差别不大，连拍速度方面也没有拉开差距。而另外三家都有自身的优势。

富士的色彩优势、佳能的人像肤色优势、索尼无敌的对焦系统都是各家一贯的卖点，而相比之下尼康则比较中庸。

除了富士xt3能够提供4k60p之外，包括尼康z50在内的各家主打apsc微单基本都是4k30p+1080慢动作，索尼6400、佳能m6ii等机型也都具备180度翻转，适合vlog自拍等，这方面尼康仍然没有特别的优势。

apsc画幅微单早年只有富士一家用心耕耘，近两年随着vlog市场的繁盛，索尼、佳能两家也开始重视起来。索尼近期推出了大三元16-55 2.8和70-350mm，而佳能也推出了大光圈定焦头32mm f1.4等。

另外，便宜大碗的“适马三剑客”除了索尼卡口外，现在也推出了佳能卡口。

可以说，尼康目前仅有的两支变焦套头是无法与富士、甚至是索尼、佳能apsc画幅微单市场正面抗衡的。

不过，从官方给出的信息来看，尼康的16-50套头似乎素质优于同类产品，具体使用体验如何，还要看开售以后的用户实际感受。

但是，不管怎样，尼康进军APS-C画幅微单市场也是一种“被迫但正确”的选择。

一方面，近年来vlog市场火爆，而全画幅在便携性方面并不十分合适，而卡片机和M43也越来越被手机所替代，apsc画幅是在画质、性能、便携性等方面最为平衡的细分市场。

另一方面，尼康选择了和索尼一样的方式，就是全画幅和apsc画幅微单采用相同的卡口，使得apsc微单也可以使用全幅镜头，可以在一定程度上弥补镜头群的不足。

而在这一方面，富士因为避开了全画幅大战选择更为前瞻远瞩的中画幅；佳能过早进入apsc微单没有考虑到微单全幅、c幅卡口不统一的问题。

所以，在卡口选择方面，尼康也有着“后知后觉”的优势。

不过不管是全画幅还是apsc画幅，微单市场的竞争日趋激烈，尼康如果不拿出属于自身的“特色优势”出来，市场下滑的趋势很难大幅扭转。

3、中国突破了哪些西方的技术封锁？

从建国以来，了解到我国已有下列靠自身解决的技术：

1、两弹一星。核武器和卫星技术自研成功。

2、飞机及发动机技术，包括军机和民用飞机。

3、导航技术，包括卫星导航。

4、大规模集成电路技术。

5、高性能材料。

6、导弹及雷达技术。

7、航母制造及相关设备技术。

8、航天飞行器。

9、核潜艇技术。

等等都是西方对我国封锁的技术……太多了！可见科技是有国界的。

4、真正突破光刻机封锁的技术诞生了？

为什么ASML的13.5纳米光刻机会登上神坛，第一，国内光刻机技术的确落后，但是不是不可逾越的。

第二，科学院高校从来没有一篇介绍光刻机原理理论的好文章，中国缺少一个理论上可以称得上是专家的团队。

第三，光刻机就是一个传统的投影成像光学仪器，不过就是精度最高的成像光学仪器？严重影响光刻机开发的干扰因素就是纳米技术等等错误的光刻机文章！

《戳穿ASML13.5纳米光刻机无法逾越的神话》

之所以有这个神话，就是13.5纳米光源只有美国制造，国内只能获得194纳米光源和光刻胶。国产光刻机的理论分辨率是90纳米。而台积电用13.5纳米光源实现了5纳米制程，又在开发3纳米制程！这样的数据对于外行，真的很害怕难以逾越，再加上科学院网站上不靠谱帖子，高校和科学院没有一篇论文，指出光刻机分辨率和制程存在差异，所以，关于芯片国产化的文章中，没有一篇敢说可以逾越ASML13.5纳米光刻机。

我为什敢说，可以逾越AL13.5纳米光刻机，理由是：

第一，13.5纳米光源只能用离轴反射光路，数值孔径一般用到0.12不会超过0.2。而194纳米通过水浸润波长变成140左右，数值孔径可达到0.7，相对孔径达到2：1，这时候194纳米光刻机和13.5纳米光刻机相差无几。注意，光刻机是光刻机，纳米制程是用户实现的，以后讨论。既然光刻机的光源已经不是实现7纳米制程的困难，下面就谈谈光刻机的制造和如何用光刻机，两个问题。

第二，这节讲光刻机设计，制造，材料问题（光刻胶材料单独讲）：

一，0.7数值孔径的平场镜设计有难度，但是还是能设计出来的，也仅仅是时间问题，当然计算软件我是自己编的，因为我用商业软件，不知道它在哪里做了近似，在其它应用中没关系，但是这种超高精度还是小心，我是用自己编程的软件设计的。

二，设计不难，光学材料也能国产化，国内有一流光学玻璃制造厂，只是时间问题，退后时间必须足够。还需改善它现有测量精度，重新制造更加抗污染的某些容器。

三，磨玻璃，可以在材料没有出来前开始，只能采用传统工艺，积累经验，至少在正式加工前，把样板磨好，有的可能还要磨对版，同样也是测量问题。

四，最难是镜头装配，需要测量分辨率的平台，还有总装。

这中间就是编写一本光学仪器装校和误差分析的经典教科书！这本来是一门大学课程，但是到了今天，这门课程在国内几乎失传了。

我这样一说，光刻机不就不难，国家光刻机的开发，是从电子学角度开始的，没有从光学角度，而且光学也仅仅是一个配角，他们没有掌握这台仪器的关键，关键部件能买的就买，没有从基础光学原理出发。最后的装配就成瞎子摸象，一台光刻机有几十万零件，没有基础理论，不知道重点在哪里，能不难吗？如果他们从光源原理出发，比如昨天有位问我地基如何处理。那很简单从光学原理出发根据精度需要保持时间计算出振荡频率和振幅，交给从事专业减震专家一起完成。

第三，什么是制过？

昨天的头条，我捅破这张层纸，这里就不多谈了。有人告诉我中芯国际正在和我说的一样在实现7纳米制程。

其实捅破这层纸不需要专业知识，这不需要专业知识，台积电实现了5纳米制程，而美国英特14纳米之后，就没有进展，他们用同样的光刻机都是13.5纳米光源。结论，光刻机有一个理论极限值的分辨率指标，但是我没看到。台积电在这个理论指标下实现了5纳米制程，和ASMAL无关！

好了，194纳米和13.5纳米光刻机的极限分辨率，就因相对孔径的差异，它们的极限分辨率差异不大。

国产光刻机只要做到浸润，浸润难吗？不难，传统显微镜就有浸润硅油目镜。再提高镜头的数值孔径，和ASML的差距几乎拉平。

剩下的就是制程了，也就是台积电使用光刻机的工艺了！我不看好中芯国际，因为它们带有台湾老蒋买办血统，它们缺少独立自主自力更生的精神，中芯国际的人也不过多了一些台积电的经验。我要谈的制程，我不知道台积电的制程做了什么，如何做的，标准是什么。

我要做的是，用基本光学原理，如何提高光刻机的分辨率的方法，工艺，用理论计算是实现它。这里不谈，保密。

最后谈谈光刻胶，因为如何用也是关键技术。日本制裁韩国，三星没有夸下来下跪，那他从哪里拿到光刻胶？当然是过去不达标准的中国光刻胶。说明光刻胶国产也能用在7纳米制程。

也就是说，国内攻克国产化7纳米制程的光刻机，没有不能逾越的困难！

5、梁孟松能不能带领着中芯国际突破美国的封锁？

从现在来说，可能性很低，但是中芯国际是未来国内最有可能打破美方垄断的企业。梁孟松是在2017年加入的中芯国际，在他加入之后，中芯国际的制程工艺开始飞速发展。

2017年，中芯国际的制程工艺还停留在28nm，并且良品率不高。当时的世界主流水平，已经达到了10nm。过于落后的技术发展，成为了中芯国际的绊脚石。在梁孟松加入之后，只用了不到一年的时间，就将中芯国际的28nm工艺在良品率上面提升到了85%以上。

紧接着，梁孟松带领着团队，直接“越级打怪”，跳过20nm的制程工艺，直接发展14nm。

梁孟松在三星半导体任职的时候，就已经带领着三星半导体成功地从28nm横跨到14nm。虽然有三星的前车之鉴，但是中芯国际的技术底蕴跟设备材料过于落后，研发起来的难度要比三星大得多。

经过了两年多的研发周期，中芯国际的14nm工艺正式量产，良品率达到了95%以上。除了14nm，12nm、7nm等更加先进的制程工艺，中芯国际也正在布局发展。先进制程工艺持续进行技术研发，对于28nm这种老旧的制程工艺，梁孟松也在逐渐往去美化的方向发展。

在2017年—2020年，全球新建与开始运营晶圆产线的占比中，中国大陆占比42%。从这个市场占比来说，有了梁孟松的加入，中芯国际在扩展生产线上面铺设的非常广泛。但是在5nm、3nm等关键工艺上面，我国需要一个EUV光刻机，便可进行全面发展。

在全球光刻机的市场份额上面，荷兰的ASML以占比75%的碾压性优势垄断着全球最顶级的光刻机设备。我国现在最先进的光刻机，就是上海微电子的产品。

2018年，上海微电子90nm的光刻机完成了市场验收。对于28nm的光刻机，上海微电子公司也正在积极进行研发调试。虽然很早之前就有消息称上海微电子的28nm光刻机已经研发完成，准备投入商用。但是到了现在，还只是有消息，正式的产品暂时还没有进行公开发布。

只要上海微电子的光刻机能到位，再加上中芯国际与梁孟松的技术迭代，不说能达到3nm的水平，但是突破美国的封锁还是没有什么问题的。